ALCATEL 干式真空泵 ADS 1202P 采用多级罗茨技术，无油设计，抽速达 676 CFM（60 Hz），极限压力低至 3.7×10⁻⁴ torr23。其宽交叉槽结构可处理粉尘颗粒，水冷电机与温控系统确保稳定运行，支持 N₂吹扫稀释腐蚀性气体118。M4 监控系统集成远程诊断、温度 / 压力监测及维护提醒功能，适配 SEMI S2-93 标准18。主要应用于半导体制造中的中等工艺，如 PECVD、灰化、介质蚀刻及离子注入，可耐受 Cl₂、CF₄等腐蚀性气体，满足晶圆处理、LED 封装等场景的高洁净度需求21114。