CANON 步进式光刻设备 FPA-5500 系列采用 i-line 光源（365nm 波长），支持 12 英寸晶圆的高精度光刻工艺，分辨率达 350nm，对准精度≤55nm58。其步进重复技术可实现复杂图案的多次曝光转移，适用于 28 纳米及以上制程节点的半导体制造，包括逻辑芯片、存储芯片、先进封装及 MEMS 等领域78。部分型号（如 FPA-5550iX）支持 50×50mm 大视场与 0.5μm 高分辨率，可用于全画幅 CMOS 传感器及微型 OLED 显示器的生产6。该系列以高稳定性和可靠性满足批量生产需求，尤其适合成熟制程的高效光刻工艺。