GE PHOENIX Nanomex 160是为高级X射线分析而设计的高性能X射线设备。该系统结合了先进的X射线发生器和数字成像单元，以产生最高质量的X射线图像。它提供高达150 nm的X射线成像分辨率,X射线能量范围高达160kV。该机器还拥有一个高度敏感的能量色散X射线光谱工具（EDS），允许精确的元素分析，直至200keV。Nanomex 160中的发电机设计为产生高度聚焦的X射线束，连续运行至80kV，峰值运行至160kV。该发电机还提供高压和低压稳定性以及大约10 x 10 μ m的均匀焦点大小。其中包含的数字成像资产针对高分辨率X射线成像进行了优化。它由一个专用的数字CCD相机与高速帧转移，提供精湛的图像分辨率与出色的对比度。成像设备中还存在一种超快速数据传输模型，数据速率高达600Mb/s。该系统的快速信号处理体系结构允许快速传输数据和获取高达每秒25帧的图像。结合成像单元，GE PHOENIX Nanomex 160还包括一台先进的EDS机。这种工具能够探测到硼和th之间原子序数的元素，其能量范围高达200keV。该资产具有完全集成的模型软件，实时控制信号采集、数据分析和频谱显示。总体而言，Nanomex 160是一款先进的X射线设备，提供卓越的成像和光谱能力。它允许精湛的图像在高达150 nm的分辨率,具有一个高度敏感的EDS系统,用于精确的元素分析。此单元非常适合广泛的X射线分析应用。