KLA/TENCOR NANOMAPPER是一种最先进的X射线检测设备，设计用于分析样品介电材料内的亚微米特征。该系统利用创新的X射线光学和专有的图像处理算法,为复杂且具有挑战性的材料创建高分辨率、经济高效的缺陷分析。KLA NANOMAPPER被设计用来生成材料中包含的不到1微米的结构的高分辨率图像。通过使用X射线光学和专有的图像处理算法，该单元允许在非导电材料的微量和纳米尺度上进行自动缺陷分析和缺陷大小确定。本机由光学成像和图像处理两部分组成.观看者使用特殊的超短脉冲激光器获取介电材料内结构的高分辨率图像。激光脉冲调整到样品材料的特性，允许优化成像分辨率和曝光时间。工具的图像处理部分使用专有算法来检测和量化成像资产检测到的任何缺陷或材料缺陷。这些算法应用复杂的边缘检测、粒度和材料识别技术来识别和突出X射线成像模型光谱范围内的缺陷特征。除了正确识别缺陷之外，算法还可以测量出现的缺陷的大小、形状和严重程度。这使用户能够快速识别电介质内无法用肉眼发现的问题。TENCOR NANOMAPPER是寻求在小于1微米的非导电材料中进行准确、可重复缺陷分析的理想解决方桉。通过结合独特的激光成像和专有的边缘检测技术，设备提供了一个进入微观世界的高分辨率窗口，可以很容易地进行分析和量化。该系统也易于使用，需要最少的设置和操作员知识才能在短时间内进行多次分析。NANOMAPPER注重精度和速度,为各种应用程序提供业界领先的检查功能。